メッセージを送る
見積依頼 |
ホーム 製品desktop rapid thermal processing equipment オンラインメーカー
すべての製品

GaNのエピタキシアル ウエファー

(65)

Sicのエピタキシアル ウエファー

(39)

GaAsエピウェーハ

(15)

CVDダイヤモンド基板

(15)

急速な熱焼きなましシステム

(2)

ホール効果センサーテスター

(3)

窒化アルミニウムのウエファー

(21)

半導体レーザーの破片

(10)

炭化ケイ素の水晶

(12)

Ga2O3 ウエハー

(13)

シリコンの薄片

(26)

サファイアのウエファー

(19)

模造されたサファイアの基質

(10)

テフロン ウエファーのホールダー

(1)

ウェーハダイシングマシン

(5)
認証
中国 Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd. 認証
オンラインです

desktop rapid thermal processing equipment オンライン製造

(1)
購入 3つのセットのプロセス ガスが付いている150mmの急速な熱焼きなましシステム オンライン メーカー

3つのセットのプロセス ガスが付いている150mmの急速な熱焼きなましシステム
連絡先

続きを読む
2024-11-18 17:56:05
Page 1 of 1
について

GaNのエピタキシアル ウエファー

2inch GaNのエピタキシアル ウエファーCの表面FeはSIのタイプ自由な地位を添加した

FeはGaNの基質の抵抗を> 10 ⁶ Ω添加した·Cm RF装置

2インチ自立型SI-GaN基板

Sicのエピタキシアル ウエファー

面取り SiC エピタキシャルウェーハ 150.0 mm +0mm/-0.2mm 350.0um± 25.0 um

4H Crystal Form SiC Epitaxial Wafer Wafer Edge Beveling 350.0um ± 25.0um

単結晶SiCのエピタキシアル ウエファーのC表面光学ポーランドのSi表面CMP

メッセージ

プライバシー政策 | 中国 よい 品質 GaNのエピタキシアル ウエファー サプライヤー. © 2023 - 2025 epi-wafers.com. All Rights Reserved.