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商品の詳細:
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| 次元: | ² 5つx 10のmmの | 厚さ: | 350 ±25µm |
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| TTV: | ≤ 10µm | 弓: | - 10µmの≤の弓≤ 10µm |
| マクロ欠陥密度: | 0cm⁻ ² | 製品名: | GaNのエピタキシアル ウエファー |
| ハイライト: | 単結晶半導体ウェーハ、TTV 10umエピウェーハ、窒化ガリウム半導体ウェーハ,TTV 10um epi wafer,Gallium Nitride Semiconductor Wafer |
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5×10.5mm2M面 アンドープn型自立GaN単結晶基板 比抵抗＜0.1Ω・cm パワーデバイス/レーザーウエハー
概要
GaN 基板は、損傷がなく、非常に平坦 (Rms < 0.2 nm)、制御された表面配向、制御された原子ステップ表面を備えています。エピタキシャル成長に適した表面品質を実現しています。
レーザーダイオード：紫LD、青LD、緑LD
パワーエレクトロニクスデバイス、高周波電子デバイス
| M へエース ふリー-stと私ng GaN サブstらtes | ||||
| アイテム |
GaN-FS-MUS
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GaN-FS-MNS
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GaN-FS-M-SI-S |
備考： 表面と裏面を区別するために、円弧角度 (R < 2 mm) が使用されます。 |
| 寸法 | 5×10mm2 | |||
| 厚さ | 350±25μm | |||
| オリエンテーション |
M 面 (1- 100) A 軸方向のオフ角度 0 ±0.5° M 面 (1- 100) C 軸方向へのオフ角度 - 1 ±0.2° |
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| 伝導タイプ | N型 | N型 | 半絶縁 | |
| 抵抗率 (300K) | < 0.1Ω・cm | < 0.05Ω・cm | > 106Ω・cm | |
| TTV | ≦10μm | |||
| 弓 | - 10 µm ≤ BOW ≤ 10 µm | |||
| 表面粗さ |
< 0.2 nm (研磨); または < 0.3 nm (エピタキシーのための研磨および表面処理) |
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| 裏面粗さ |
0.5～1.5μm オプション: 1~3 nm (ファイングラウンド);< 0.2 nm (研磨済み) |
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| 転位密度 | 1×10から5～3×106cm-2 | |||
| マクロ欠陥密度 | 0cm-2 | |||
| 使用可能面積 | > 90% (エッジ除外) | |||
| パッケージ | クラス 100 のクリーン ルーム環境で、窒素雰囲気下で 6 個の PCS コンテナーにパッケージ化されています。 | |||
付録: ミスカット角度の図
もしδ1= 0 ±0.5 度の場合、M 面 (1 ～ 100) の A 軸方向のオフ角度は 0 ±0.5 度です。
もしδ2= - 1 ±0.2 度の場合、M 面 (1- 100) の C 軸方向のオフ角度は - 1 ±0.2 度です。
私たちに関しては
私たちは、さまざまな材料をウェーハ、基板、およびカスタマイズされた光学ガラス部品に加工することを専門としています。これらの部品は、エレクトロニクス、光学、オプトエレクトロニクス、および他の多くの分野で広く使用されています。また、国内外の多くの大学、研究機関、企業と緊密に連携し、研究開発プロジェクト向けにカスタマイズされた製品とサービスを提供しています。私たちの良い評判によって、すべてのお客様と協力関係を維持することが私たちのビジョンです。
よくある質問
Q: あなたは商社ですか、それともメーカーですか?
私たちは工場です。
Q：納期はどのくらいですか？
通常、在庫がある場合は3～5日です。
または、商品が在庫にない場合は、数量に応じて7〜10日です。
Q: サンプルを提供していますか?それは無料ですか、それとも余分ですか？
はい、無料でサンプルを提供できますが、運賃はかかりません。
Q: 支払条件は何ですか?
お支払い <=5000USD、100% 前払い。
Paymen >=5000USD、前もって 80% T/T、shippment の前のバランス。
コンタクトパーソン: Xiwen Bai (Ciel)
電話番号: +8613372109561
