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商品の詳細:
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| 製品名: | 単結晶の基質 | 厚さ: | 0.6~0.8mm |
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| オリエンテーション: | （201） | FWHM: | <350arcsec> |
| 磨かれた表面: | 磨かれる単一の側面 | RA: | ≤0.3nm |
| ハイライト: | Ga2O3 エピタキシャルウェーハ 2 インチ、単結晶基板 4 インチ、単結晶エピタキシャルウェーハ,Single Crystal Substrate 4 Inch,single crystal epitaxial wafer |
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Ra≤0.3nm 単結晶基板厚 0.6~0.8mm 方位 (-201)
10×10mm2(-201) Fe ドープ自立型 Ga2〇3単結晶基板 製品グレード 片面研磨 厚さ 0.6~0.8mm FWHM＜350arcsec,Ra≦0.3 nm オプトエレクトロニクスデバイス、半導体材料の絶縁層、UVフィルター
Gaの掲載数2〇3図 1 から明らかなように、既存の技術を超えた機能を備えた電子およびフォトニック デバイスへの関心により、近年加速しています。Ga の特性に関する実験的調査と理論的調査の健全なバランスが保たれています。2〇3システム
| 窒化ガリウム基板 -- 製品レベル | ||
| 寸法 | 10×15mm | 10×10mm |
| 厚さ | 0.6~0.8mm | |
| オリエンテーション | (201) | |
| ドーピング | フェ | スン |
| 研磨面 | 片面研磨 | |
| 比抵抗/Nd-Na | / | <9E18 |
| FWHM | <350秒角 | |
| ラー | ≤0.3nm | |
| パッケージ | 窒素雰囲気下のクラス100のクリーンルーム環境でパッケージング | |
私たちに関しては
私たちは、さまざまな材料をウェーハ、基板、およびカスタマイズされた光学ガラス部品に加工することを専門としています。これらの部品は、エレクトロニクス、光学、オプトエレクトロニクス、および他の多くの分野で広く使用されています。また、国内外の多くの大学、研究機関、企業と緊密に連携し、研究開発プロジェクト向けにカスタマイズされた製品とサービスを提供しています。私たちの良い評判によって、すべてのお客様と協力関係を維持することが私たちのビジョンです。
よくある質問
Q: あなたは商社ですか、それともメーカーですか?
私たちは工場です。
Q：納期はどのくらいですか？
通常、在庫がある場合は3～5日です。
または、商品が在庫にない場合は、数量に応じて7〜10日です。
Q: サンプルを提供していますか?それは無料ですか、それとも余分ですか？
はい、無料でサンプルを提供できますが、運賃はかかりません。
Q: 支払条件は何ですか?
お支払い <=5000USD、100% 前払い。
Paymen >=5000USD、前もって 80% T/T、shippment の前のバランス。
コンタクトパーソン: Xiwen Bai (Ciel)
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