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SnドーピングGa2O3ウェーハ単結晶基板10x10mm2

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SnドーピングGa2O3ウェーハ単結晶基板10x10mm2

SnドーピングGa2O3ウェーハ単結晶基板10x10mm2
Sn Doping Ga2O3 Wafer Single Crystal Substrate 10x10mm2
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大画像 :  SnドーピングGa2O3ウェーハ単結晶基板10x10mm2

商品の詳細:
起源の場所: 蘇州中国
ブランド名: GaNova
証明: UKAS/ISO9001:2015
モデル番号: JDCD04-001-002
お支払配送条件:
パッケージの詳細: クラス10000のクリーンルーム環境での真空パック、6枚入りカセットまたは枚葉容器。
受渡し時間: 3-4 週日

SnドーピングGa2O3ウェーハ単結晶基板10x10mm2

説明
厚さ: 0.6~0.8mm 製品名: 単結晶の基質
オリエンテーション: (201) 磨かれた表面: 磨かれる単一の側面
FWHM: <350arcsec> RA: ≤0.3nm
ハイライト:

SnドーピングGa2O3ウェーハ、0.8mmガリウム酸化物ウェーハ、Ga2O3ウェーハ10x10mm2

,

0.8mm Gallium Oxide wafer

,

Ga2O3 Wafer 10x10mm2

10×10mm2(-201) Fe ドープ自立型 Ga23単結晶基板 製品グレード 片面研磨 厚さ 0.6~0.8mm FWHM<350arcsec,Ra≦0.3 nm オプトエレクトロニクスデバイス、半導体材料の絶縁層、UVフィルター

 

Gaのこれらの異なる相の中で23、斜方晶β-ガリア構造(β相またはβ-Ga23) は最も安定な結晶構造であり、最近の注目を集めています。異なる多形は、成長条件に応じて、絶縁体または導体のいずれかになります。

 

 

窒化ガリウム基板 -- 製品レベル
寸法 10×15mm 10×10mm
厚さ 0.6~0.8mm
オリエンテーション (201)
ドーピング フェ スン
研磨面 片面研磨
比抵抗/Nd-Na / <9E18
FWHM <350秒角
ラー ≤0.3nm
パッケージ 窒素雰囲気下のクラス100のクリーンルーム環境でパッケージング

 

 

私たちに関しては

私たちは、さまざまな材料をウェーハ、基板、およびカスタマイズされた光学ガラス部品に加工することを専門としています。これらの部品は、エレクトロニクス、光学、オプトエレクトロニクス、および他の多くの分野で広く使用されています。また、国内外の多くの大学、研究機関、企業と緊密に連携し、研究開発プロジェクト向けにカスタマイズされた製品とサービスを提供しています。私たちの良い評判によって、すべてのお客様と協力関係を維持することが私たちのビジョンです。

 

 

よくある質問

Q: あなたは商社ですか、それともメーカーですか?
私たちは工場です。
Q:納期はどのくらいですか?
通常、在庫がある場合は3~5日です。
または、商品が在庫にない場合は、数量に応じて7〜10日です。
Q: サンプルを提供していますか?それは無料ですか、それとも余分ですか?
はい、無料でサンプルを提供できますが、運賃はかかりません。
Q: 支払条件は何ですか?
お支払い <=5000USD、100% 前払い。
Paymen >=5000USD、前もって 80% T/T、shippment の前のバランス。

 

連絡先の詳細
Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd.

コンタクトパーソン: Xiwen Bai (Ciel)

電話番号: +8613372109561

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