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単一の側面の磨かれたGa2O3ウエファーの単結晶の基質

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単一の側面の磨かれたGa2O3ウエファーの単結晶の基質

単一の側面の磨かれたGa2O3ウエファーの単結晶の基質
Single Side Polished Ga2O3 Wafer Single Crystal Substrate
単一の側面の磨かれたGa2O3ウエファーの単結晶の基質 単一の側面の磨かれたGa2O3ウエファーの単結晶の基質

大画像 :  単一の側面の磨かれたGa2O3ウエファーの単結晶の基質

商品の詳細:
起源の場所: 蘇州中国
ブランド名: GaNova
証明: UKAS/ISO9001:2015
モデル番号: JDCD04-001-002
お支払配送条件:
パッケージの詳細: クラス10000のクリーンルーム環境での真空パック、6枚入りカセットまたは枚葉容器。
受渡し時間: 3-4 週日

単一の側面の磨かれたGa2O3ウエファーの単結晶の基質

説明
製品名: 単結晶の基質 厚さ: 0.6~0.8mm
磨かれた表面: 磨かれる単一の側面 オリエンテーション: (201)
FWHM: <350arcsec> RA: ≤0.3nm
ハイライト:

側面はGa2O3ウエファーを磨いた

,

0.6mmガリウム窒化物の基質

,

Ga2O3ウエファーUKAS

10x10mm2は(- 201)支えがないGa2O3の単結晶の基質プロダクト等級半導体材料の単一の磨く厚さ0.6~0.8mm FWHM<350arcsec、Ra≤0.3 nm光電子工学装置、絶縁層、および紫外線フィルターをFe添加した

ガリウム酸化物(Ga2 O3)は大きいbandgapによる既存の技術を越える機能のパワー エレクトロニクス、太陽盲目の紫外線フォトディテクター、太陽電池およびセンサーのある特定のクラスのための実行可能な候補者として現れている。Ga2 O3の5つの多形が、即ち単斜晶系(β−Ga2O3)、rhombohedral (α)、不完全なスピネル(γ)、立方(δ)、またはorthorhombic (εの)構造あることが通常報告される。

ガリウム窒化物の基質--プロダクト レベル
次元 10*15mm 10*10mm
厚さ 0.6~0.8mm
オリエンテーション (201)
添加 Fe Sn
磨かれた表面 磨かれる単一の側面
Resistivity/Nd Na / <9e18>
FWHM <350arcsec>
RA ≤0.3nm
パッケージ 、窒素の大気の下でクラス100のクリーン ルームの環境で包まれる

私達について

私達は電子工学、光学、opto電子工学および他の多くの分野で広く利用されたウエファー、基質およびカスタマイズされた光学ガラスparts.componentsにいろいろな材料を処理することを専門にする。私達はまた多くの国内を密接に使用して、海外大学、研究所および会社はR & Dのプロジェクトに、カスタマイズされた製品とサービスを提供する。それは私達のよい評判によって私達のすべての顧客との協同のよい関係の維持へ私達の視野である。

FAQ

Q:あなた商事会社または製造業者はであるか。
私達は工場である。
Q:どの位あなたの受渡し時間はあるか。
通常それは商品が在庫にあれば3-5日である。
またはそれは量に従って商品が在庫になければ7-10日、それあるである。
Q:サンプルを提供するか。それまたは余分は自由にあるか。
はい、私達は自由電荷のためのサンプルを提供できたが、貨物の費用を支払わない。
Q:あなたの支払い条件は何であるか。
支払の <> 支払>=5000USD、先立って80% T/T、郵送物の前のバランス。

連絡先の詳細
Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd.

コンタクトパーソン: Xiwen Bai (Ciel)

電話番号: +8613372109561

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