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4H Politypeの単結晶の炭化ケイ素4" Pの等級Siの表面

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4H Politypeの単結晶の炭化ケイ素4" Pの等級Siの表面

4H Politypeの単結晶の炭化ケイ素4" Pの等級Siの表面
4H Politypeの単結晶の炭化ケイ素4" Pの等級Siの表面

大画像 :  4H Politypeの単結晶の炭化ケイ素4" Pの等級Siの表面

商品の詳細:
モデル番号: JDZJ01-001-001
お支払配送条件:
パッケージの詳細: 単一種子容器にクリーンルームで包装
受渡し時間: 3-4 週日

4H Politypeの単結晶の炭化ケイ素4" Pの等級Siの表面

説明
ポリタイプ: 4h 直径: 100.0mm±0.5mm
オリエンテーション: 4.0°±0.2° 第一次平らなオリエンテーション: {10-10} ±5.0°
一次平面長: 32.5mm±2.0mm 二次平らなオリエンテーション: Si表面:90°cw.from第一次flat±5°
ハイライト:

単結晶の炭化ケイ素4"

,

Nのタイプ結晶の炭化ケイ素

,

単結晶の炭化ケイ素Siの表面

JDZJ01-001-001 SiCの種結晶4" Pの等級のSi表面90°Cw.From第一次Flat±5°

SiCの種結晶4" PGrade

SiCの物理的な、電子特性はそれに短波の光電子工学のための一番の半導体抵抗力がある材料、高温、放射強力な/高周波電子デバイスをする。

6inch SiCのインゴット指定
等級 生産の等級 模造の等級
Politype 4H
直径 100.0mm±0.5mm
キャリアのタイプ Nタイプ
抵抗 0.015~0.028ohm.cm
オリエンテーション 4.0°±0.2°
第一次平らなオリエンテーション {10-10} ±5.0°
第一次平らなLengh 32.5mm±2.0mm
二次平らなオリエンテーション Si表面:90°cw.from第一次flat±5°
二次平らな長さ 18.0mm±2.0mm
高輝度ライトで端のひび 放射状のものの≤1mm 放射状のものの≤3mm
高輝度ライトによる六角形の版 Size<1mm、累積area<1% 累積area<5%
高輝度ライトによるPolytype区域 どれも ≤5%area
MicroPipe密度 それは破壊試験である。どの不一致でも顧客によって、製造者の再検査のためのサンプル提供されれば。

それは破壊試験である。どの不一致でも顧客によって、製造者の再検査のためのサンプル提供されれば。

端の破片 最大長および幅の≤1 1つのmm 最大長および幅の≤3 3つのmm

私達について

私達は電子工学、光学、opto電子工学および他の多くの分野で広く利用されたウエファー、基質およびカスタマイズされた光学ガラスparts.componentsにいろいろな材料を処理することを専門にする。私達はまた多くの国内を密接に使用して、海外大学、研究所および会社はR & Dのプロジェクトに、カスタマイズされた製品とサービスを提供する。それは私達のよい評判によって私達のすべての顧客との協同のよい関係の維持へ私達の視野である。

FAQ

Q:あなた商事会社または製造業者はであるか。
私達は工場である。
Q:どの位あなたの受渡し時間はあるか。
通常それは商品が在庫にあれば3-5日である。
またはそれは量に従って商品が在庫になければ7-10日、それあるである。
Q:サンプルを提供するか。それまたは余分は自由にあるか。
はい、私達は自由電荷のためのサンプルを提供できたが、貨物の費用を支払わない。
Q:あなたの支払い条件は何であるか。
支払の <> 支払>=5000USD、先立って80% T/T、郵送物の前のバランス。

連絡先の詳細
Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd.

コンタクトパーソン: Xiwen Bai (Ciel)

電話番号: +8613372109561

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