商品の詳細:
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オリエンテーション: | <1-0-0><1-1-1>、<1-1-0> | 厚さ(μm): | 279 |
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厚さの許容: | 標準的な± 25μmの最高の機能の± 5μm | 抵抗: | 0.001-100オームcm |
終わる表面: | 、P/P、E/E、G/G P/E | TTV (μm): | 標準的な<10μm、最高Capabilities<5μm |
弓/ゆがみ: | 標準的な<40μm、最高Capabilities<20μm | 粒子: | <10> |
ハイライト: | ケイ素の半導体ウエハー、pはシリコンの薄片、半導体ウエハー380umを添加した,p doped silicon wafer,Semiconductor Wafer 380um |
厚さ(μm)の279 2インチのシリコンの薄片のオリエンテーション <1-0-0><1-1-1>、<1-1-0>
2インチのシリコンの薄片MEMS装置、集積回路、分離した装置のための熱心な基質
概観
半導体のための要求は多分として育ち続けるために見られる。要求の中で運転者はIoTで巨大なデータ量を貯え、処理し、ための記憶および論理機構そして大きいデータ時代である;安全な運転の援助のために必要とされるおよび車を自己運転するさまざまなセンサー;そしてエネルギー消費を減らすために必要な力管理装置。
指定
シリコンの薄片 | |
直径
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2"/3"/4"/5"/6"/8"/12" |
等級 | 主 |
成長方法 | CZ |
オリエンテーション | <1-0-0><1-1-1>、<1-1-0> |
タイプ/添加物 | Pのタイプ/ほう素、Nのタイプ/Phos、N Type/As、N Type/Sb |
厚さ(μm) | 279/380/525/625/675/725/775 |
厚さの許容 | 標準的な± 25μmのCapabilit最高の/iesの± 5μm |
抵抗 | 0.001-100オームcm |
終わる表面 | 、P/P、E/E、G/G P/E |
TTV (μm) | 標準 <10> |
弓/ゆがみ | 標準 <40> |
粒子 | <10> |
私達について
私達は電子工学、光学、opto電子工学および他の多くの分野で広く利用されたウエファー、基質およびカスタマイズされた光学ガラスparts.componentsにいろいろな材料を処理することを専門にする。私達はまた多くの国内を密接に使用して、海外大学、研究所および会社はR & Dのプロジェクトに、カスタマイズされた製品とサービスを提供する。それは私達のよい評判によって私達のすべての顧客との協同のよい関係の維持へ私達の視野である。
FAQ
Q:あなた商事会社または製造業者はであるか。
私達は工場である。
Q:どの位あなたの受渡し時間はあるか。
通常それは商品が在庫にあれば3-5日である。
またはそれは量に従って商品が在庫になければ7-10日、それあるである。
Q:サンプルを提供するか。それまたは余分は自由にあるか。
はい、私達は自由電荷のためのサンプルを提供できたが、貨物の費用を支払わない。
Q:あなたの支払い条件は何であるか。
支払の <>
支払>=5000USD、先立って80% T/T、郵送物の前のバランス。
コンタクトパーソン: Xiwen Bai (Ciel)
電話番号: +8613372109561