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商品の詳細:
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直径: | 2" | オリエンテーション: | <1-0-0><1-1-1>、<1-1-0> |
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タイプ/添加物: | Pのタイプ/ほう素、Nのタイプ/Phos、N Type/As、N Type/Sb | 厚さ(μm): | 279 |
厚さの許容: | 標準的な± 25μmの最高の機能の± 5μm | 抵抗: | 0.001-100オームcm |
終わる表面: | 、P/P、E/E、G/G P/E | TTV (μm): | 標準的な<10 μm、最高Capabilities<5 μm |
弓/ゆがみ: | 標準的な<40 μm、最高Capabilities<20 μm | 粒子: | <10> |
ハイライト: | 2"半導体のシリコンの薄片,Nのタイプ ケイ素のepiのウエファー,nはシリコンの薄片279umを添加した |
2インチのシリコンの薄片の厚さ(μm)の279抵抗0.001-100オームcm
2インチのシリコンの薄片MEMS装置、集積回路、分離した装置のための熱心な基質
概観
私達の少数に日常生活の実際のシリコンの薄片に出会うチャンスがある。この超平らなディスクは鏡のような表面に磨かれ、小さい表面の不規則性のできるだけ自由になされ、それに世界の最も平らな目的をする。それはmicroparticlesおよび他の不純物がまたultra-clean、事実上ない。これらの質は必要である従ってそれは今日の最新式の半導体の基質材料として使用することができる。
指定
シリコンの薄片 | |
直径
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2"/3"/4"/5"/6"/8"/12" |
等級 | 主 |
成長方法 | CZ |
オリエンテーション | <1-0-0><1-1-1>、<1-1-0> |
タイプ/添加物 | Pのタイプ/ほう素、Nのタイプ/Phos、N Type/As、N Type/Sb |
厚さ(μm) | 279/380/525/625/675/725/775 |
厚さの許容 | 標準的な± 25μmのCapabilit最高の/iesの± 5μm |
抵抗 | 0.001-100オームcm |
終わる表面 | 、P/P、E/E、G/G P/E |
TTV (μm) | 標準 <10> |
弓/ゆがみ | 標準 <40> |
粒子 | <10> |
私達について
私達は電子工学、光学、opto電子工学および他の多くの分野で広く利用されたウエファー、基質およびカスタマイズされた光学ガラスparts.componentsにいろいろな材料を処理することを専門にする。私達はまた多くの国内を密接に使用して、海外大学、研究所および会社はR & Dのプロジェクトに、カスタマイズされた製品とサービスを提供する。それは私達のよい評判によって私達のすべての顧客との協同のよい関係の維持へ私達の視野である。
FAQ
Q:あなた商事会社または製造業者はであるか。
私達は工場である。
Q:どの位あなたの受渡し時間はあるか。
通常それは商品が在庫にあれば3-5日である。
またはそれは量に従って商品が在庫になければ7-10日、それあるである。
Q:サンプルを提供するか。それまたは余分は自由にあるか。
はい、私達は自由電荷のためのサンプルを提供できたが、貨物の費用を支払わない。
Q:あなたの支払い条件は何であるか。
支払の <>
支払>=5000USD、先立って80% T/T、郵送物の前のバランス。
コンタクトパーソン: Xiwen Bai (Ciel)
電話番号: +8613372109561