![]() |
4インチによってMg添加されるGaN/サファイアの基質SSP Resistivity~10Ω cm LEDレーザーPINのエピタキシアル ウエファー2024-07-31 15:01:27 |
![]() |
10*10.5mm2 C表面はSIタイプの支えがないGaNの単結晶の基質の抵抗を> 10 ⁶ Ω Fe添加した·Cm RF装置ウエファー2022-10-25 15:05:44 |
![]() |
シリコンの薄片20nmContactの層の次元520±10nm 2inch緑主導のGaN2023-02-17 11:16:39 |
![]() |
シリコンウェーハ上の 2 インチ緑色 LED GaN 寸法 520±10nm2023-02-17 11:21:32 |
![]() |
片面研磨 Ga2O3 基板 単結晶 厚さ 0.6mm 0.8mm2023-02-17 14:30:35 |
![]() |
JDCD04-001-003 10x10mm2 100(オフ 6°) Fe ドープ自立型 Ga2O3 単結晶基板 製品グレード シングル研磨2022-10-09 10:29:17 |
![]() |
JDCD04-001-002 10x10mm2は(- 201)支えがないGa2O3単結晶の基質プロダクトを等級別にする単一のポーランド語をSn添加した2022-10-09 10:30:00 |
![]() |
5*10mm2表面Un-Doped Nタイプの支えがないGaNの単結晶の基質の抵抗<0.1 Ω·cm力装置/レーザーW2022-10-25 15:15:40 |
![]() |
JDCD04-001-007 10x10mm2(010)Sn ドープ自立型 Ga2O3 単結晶基板 製品グレード シングル研磨2023-02-17 14:49:57 |
![]() |
5*10mm2 SP表面(11-12) Un-Doped Nタイプの支えがないGaNの単結晶の基質の抵抗< 0.1 Ω·cm力装置2023-02-17 11:08:54 |